Elektrokimyasal yöntemle nanoyapılı SnO2 filmlerinin elde edilmesi ve karakterizasyonu

Abstract

Bu çalışmada, nanoyapılı SnO? filmleri elektrokimyasal depolama yöntemi ile farklı depolama parametrelerinde (uygulama voltajı ve depolama süresi) p-tipi silisyum alttaşlar üzerine elde edilmiştir. SnO? filmlerinin elde edilmesinde uygulama voltajı olarak -0,9 V, -1 V, -1,1 V, -1,2 V ve -1,3 V; kaplama süresi için ise 15 dk, 30 dk, 60 dk ve 120 dk kullanılmıştır. SnO? filmleri 70?’ de elde edilmiştir. Elde edilen filmlerin yapısal karakterizasyonu X-ışınları kırınım desenlerinden (XRD), morfolojik karakterizasyonu Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) görüntülerinden, elektriksel karakterizasyonu ise oda sıcaklığındaki direnç ölçümlerinden yararlanılarak yapılmıştır. Elde edilen filmlerin XRD desenlerinden tetragonal rutil polikristal yapıya sahip olduğu ve en şiddetli pikin (211) düzlemine ait olduğu görülmüştür. En iyi kristallenme -1,1 V ve -1,3 V uygulama voltajı ile 120 dk depolama süresinde elde edilen filmlerde görülmüştür. Filmlerin yüzey dirençlerini belirlemek için Van der Pauw yöntemi kullanılmıştır.