Nano ölçekli vanadyum oksit ince film akıllı malzemelerin farklı kalınlıklarda büyütülmesi

dc.contributor.advisorÖksüzoğlu, R. Mustafa
dc.contributor.departmentAnadolu Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, İleri Teknolojiler Anabilim Dalıen_US
dc.contributor.institutionauthorGozalı, Ulviyya
dc.date.accessioned2025-11-30T22:06:04Z
dc.date.issued2018
dc.description.abstractSıcaklık farkıyla yarı iletken fazdan iletken faza geçişe sahip olması ve bilinen birçok dikkat çekici özellikleri nedeniyle Vanadyum Oksit (VOx), farklı uygulamalar için kullanılmaktadır. Ayrıca, yüksek TCR (direncin sıcaklık sabiti) değeri, düşük elektriksel gürültü ve düşük elektriksel direnç (R) gibi değerlere sahip olması nedeniyle Vanadyum Oksit ön plana çıkmaktadır. Bu yüksek lisans tezi kapsamında, vurmalı DC reaktif magnetron sıçratma (P-DC RMS) yöntemi ile Si/SiO2 ve Si/SiO2/Si3N4 alttaşları üzerinde farklı kalınlıklarda büyütülen VOx ince filmlere gaz oranının, alttaş etkisinin ve kalınlığının etkisi incelenmiş, elektriksel ve yapısal özellikleri arasındaki bağlantıya bakılmıştır.en_US
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/11421/23537
dc.language.isoturen_US
dc.publisherTez (yüksek lisans) - Anadolu Üniversitesien_US
dc.relation.publicationcategoryTezen_US
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen_US
dc.titleNano ölçekli vanadyum oksit ince film akıllı malzemelerin farklı kalınlıklarda büyütülmesien_US
dc.typemasterThesisen_US

Dosyalar

Orijinal seri

Şimdi gösteriliyor 1 - 1 / 1
Yükleniyor...
Thumbnail Image
Ad:
539669.pdf
Boyut:
3.58 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Açıklama
Tam metin / Full text

Lisanslı seri

Şimdi gösteriliyor 1 - 1 / 1
Yükleniyor...
Thumbnail Image
Ad:
license.txt
Boyut:
1.44 KB
Format:
Plain Text
Açıklama

Koleksiyonlar